简介

TWINSCAN AT:850C248 nm步进扫描系统是一种高产能、双级KrF光刻工具，设计用于在110nm分辨率及以下的300mm晶圆批量生产。将可调节0.55-0.80数值孔径Carf Zess Starlth 4X缩小透镜的成像能力与AEFIALII和QUASAR Illuminator技术相结合，将经验成熟的KrF技术扩展到100nm应用。TWINCAN的双晶圆平台技术使一个晶片的曝光和下一个晶片对准能够并行进行，实际上消除了读取时间过长，并允许晶片连续图案化以提高生产率。下一代芯片设计规则可以利用ATHENA改进的套刻。新颖的离轴晶片映射改进了边缘的聚焦和调平部分，以实现更好的工艺控制。具有可变频率控制的高度窄化的20W KrF激光器，结合光学系统的高光透射率，以最低的操作成本每小时生产112个300mm晶片。

主要功能和优点

■带有高级透镜操纵器的0.80NA248nm可变投影透镜

生产分辨率低于110nm

■双工位技术

支持并行处理，从而减少生产时间并最大限度地提高生产率，提供对准和调平控制

提供最高的300mm生产效率

■AERIALII 照明器

使用变焦光学器件实现连续可变的常规和离轴照明，以保持高产能

■TWINSCAN步进扫描系统

与iHine和ArF步进式光刻机兼容，用于经济的“混搭”解决方案

■高速扫描平台

在更宽的光刻胶敏感性范围内，提供业界领先的产能

■质量平衡补偿

消除振动，确保最高分辨率的图像质量

■具有可变频率控制的20W KrF激光技术

高激光功率与激光脉冲的高效利用完美结合，可实现尽可能低的激光操作成本