Clean Track™ ACT™系列是基于Clean Track™系列技术的产品，可支持300/200mm晶片的涂胶显影工艺。关键优势有高吞吐量、减少占用空间和启动时间的改进。此外，除可对应光刻工艺外，这些技术还适用于掩模工艺和低k介质工艺。由于其作为行业标准系统的高可靠性，ACT™系列继续为客户的生产做出贡献。
Clean Track™ ACT™ 8是针对75-200毫米晶圆的涂胶/显影设备，提供稳定、高质量的工艺加工能力，并实现从研发到批量生产的顺利过渡。当与曝光设备在线使用时，该系统在占用空间方面与之前的系统相似，但由于其更快的晶片传输速度，提供了更高的吞吐量。由于组件的可靠性的提高和维护的方便性，正常运行时间有所提高。该平台还使用了一个化学过滤器和一个高精度的烤箱来支持DUV处理。
Clean Track™ ACT™ 8 SOD是一种介电旋涂系统，能够涂布、烘烤和固化低k介电膜。它可以处理不同的SOD材料（包括有机、无机、杂化和多孔薄膜），通过对各自的材料进行优化的专用单元。该系统配备了一个能够在低氧环境下进行高温处理的热板，可以在不使用传统炉的情况下实现在线固化。