0769-2223 1935
ULVAC 爱发科PECVD：CC-200Cz
在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，Load-lock，托盘式，多基板尺寸，2inch-8inch 兼容。
产品描述
产品特性 / Product characteristics
• 等离子增强型化学气相沉积设备
• 用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积
• 膜层应力稳定,可调范围广泛
• 可换托盘式,基板尺寸切换简便
• 2～12inch,方片,未定型片完美兼容
产品应用 / Product application
• 功率器件，LED，光通信/传感器
• 高校及研究所等
上一篇
返回列表
