0769-2223 1935
ULVAC 爱发科刻蚀设备：NE-550EXz
在高真空条件下，通过RF高频放电，产生等离子体，在偏压的作用下，通过物理和化学的作用，对特定的材料去除。蚀刻材料：金属，GaN，In P，SiO2，Si ，Polymide 等材料。Load –lock 式，全自动控制，专利ISM电极,均匀性高，安定性好，构造简单，维护简便。
产品描述
产品特性 / Product characteristics
• 蚀刻均匀性，稳定性优异
• Load –lock式，全自动控制
• 应用广泛SiO2，SiN，金属，化合物等
• 构造简单，维护简便
• 2,4,6,8inch基板兼容,切换便利
产品应用 / Product application
• 功率器件，LED，光通信/传感器，高校及研究所等
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